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台积电宣布，其抢先业界导入极紫外光（EUV）微影技术的7纳米强效版(N7+)制程已辅佐客户产品大量进入市场。导入EUV微影技术的N7+奠基于台积电胜利的7纳米制程之上，也为明年首季试产6纳米和更先进制程奠定良好根底。 台积电N7+的量产速度为史上量产速度最快的制程之一，于2019年第二季开端量产，在7纳米制程技术（N7）量产超越一年时间的状况下，N7+良率与N7已相当接近。N7+同时提供了整体效能的提升，N7+的逻辑密度比N7进步15%至20%，同时降低功耗，使其成为业界下一波产品中更受欢送的